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題名 | 常壓電漿束技術在半導體製程之應用 |
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作者姓名(中文) | 張耀仁; 藍光宏; 洪達志; 黃建榮; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 198 1999.09[民88.09] |
頁次 | 頁207-213 |
專輯 | 半導體設備技術專輯 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 電漿束; 非接觸式晶圓支座; 晶圓薄化; Plasma jet; Non-contact wafer holder; Wafer thinning; |
語文 | 中文(Chinese) |