查詢結果分析
相關文獻
- 提昇製程品質控制績效之研究--結合管制圖與移動平均控制法
- 雙重EWMA管制法之設計研究
- 製程間具相關數據之趨勢模型偵測探討
- Distributional Property of the Incapability Index C抅抅 Under Edgeworth Series Distribution for Processes with Symmetric Tolerances
- An Integrated Approach to Semiconductor Equipment Monitoring
- 軟體品質保證系統:架構與個案之探討
- A Self-Tuning Run-By-Run Process Controller for Processes Subject to Random Disturbances
- 類神經網路於製程管制之應用:具相關性數據特性模型之偵測與分析
- 製程能力分析與改善
- 多重變異來源特性之半導體製程取樣與統計製程管制策略
頁籤選單縮合
題 名 | 提昇製程品質控制績效之研究--結合管制圖與移動平均控制法=An Enhanced Algorithm to Integrate Statistical Process Control and Feedback Control |
---|---|
作 者 | 郭瑞祥; 陳正剛; 吳廣瀅; | 書刊名 | 管理學報 |
卷 期 | 16:1 1999.03[民88.03] |
頁 次 | 頁101-124 |
分類號 | 494.56 |
關鍵詞 | 統計製程管制; 批次回饋控制; 指數加權移動平均; Statistical process control; Run-by-run feedback control; EWMA; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 在本篇論文中我們針對結合統計製程管制與批次回饋控制的方法進行研究。我們 以現有的方法為基礎,提出一個製程品質控制績效更為提昇之架構。此架構包含兩個主要模 組,在統計製程管制模組中,蕭華特及指數加權移動平均管制圖分別被使用來偵測製程之大 偏移及小偏移。在批次回饋控制模組中,我們使用移動平均的理論來估計製程偏移量的大小 ,並藉此調整製程控制模型,產生出下一批次的製程輸入值。利用蒙地卡羅的模擬結果,我 們提出了較為強健且經濟的控制參數選擇法則,我們也由模擬中驗證對於被速移與漂移所影 響之製程,我們的方法較現有的方法,特別是結合指數加權移動平均管制圖與指數加權移動 平均控制法要來的有效。 |
英文摘要 | In this paper we present an enhanced algorithm to integrate the functions of statistical process control and run-by-run feedback control. In the statistical process control function, the Shewhart control chart is used to detect a large process deviation while the EWMA control chart is used to detect a small process deviation. In the run-by-run feedback control function, a moving average formulation is used to update the control model and generate the recipe on a run by run basis. To validate the effectiveness of the proposed algorithm, Monte Carlo simulations are performed to simulate processes that are subject to shifts and drift. Results of the simulations show that the enhanced algorithm is bettr than the current schemes such as a combined EWMA control chart and EWMA feedback control scheme. |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。