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題名 | 濺鍍參數和基板材質影響氧化鋅薄膜結構的研究= |
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作者 | 張忠誠; 張竟宏; 方昇崑; |
期刊 | 材料科學 |
出版日期 | 19940300 |
卷期 | 26:1 1994.03[民83.03] |
頁次 | 頁59-63 |
分類號 | 440.39 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 基板; 氧化鋅; 薄膜結構; Substrate; ZnO; Thin film structure; |
中文摘要 | 本實驗針對在Si,A1/Si,SiO��/Si,Si�陛AN��/Si等不同的基板上,用濺 鍍法成長氧化鋅薄膜,以測試在不同的基板上成長氧化鋅薄膜之不同特性,以及 其適合之氧化鋅薄膜沉積條件。由各組實驗結果比較在各種基板材質,以及濺鍍 條件下所成長之氧化鋅薄膜包括成長速率,FWHM等特性,同時歸納出較適合沉 積氧化鋅薄膜的基板和濺鍍參數。 另外在SiO��/(100)Si基板沉積ZnO薄膜的實驗也探討沉積參數對C軸配向之影響。 |
英文摘要 | In the experiment we use RF sputtering method to grow ZnO thin film on different substratessuch as Si, AI/Si, SiO��/Si, Si�衹�� Si. We compare the growth rate and FWHM value of grown ZnO thin film in different sputteringconditions. The aim is to find better substrates and sputtering parameters. We also discuss the relationbetween the deposition parameters and the c-axis orientation. |
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