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來源資料
中國工程學刊
10:2 1987.03[民76.03]
頁195-200
電機工程
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電燈廠
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題 名
Characterization of Surface Profiles of LPCVD Silicon Nitride Films by RBS-Profile=應用RBS-Profile 分析以低壓化學氣相沈積法鍍製氮化矽薄膜的表面分佈
作 者
陳玉瓊
;
書刊名
中國工程學刊
卷 期
10:2 1987.03[民76.03]
頁 次
頁195-200
分類號
448.57
關鍵詞
化學氣相沈積法
;
氮化矽
;
薄膜
;
鍍製
;
語 文
英文(English)
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