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| 題 名 | 原子層沉積之應用與未來發展趨勢=Applications and Future Development of Atomic Layer Deposition |
|---|---|
| 作 者 | 陳厚任; 林新智; | 書刊名 | 工業材料 |
| 卷 期 | 464 2025.08[民114.08] |
| 頁 次 | 頁74-86 |
| 專 輯 | 高階半導體鍍膜材料技術專題 |
| 分類號 | 448.65 |
| 關鍵詞 | 原子層沉積; 高介電係數; High-k/金屬閘極; 雙功函數金屬; 原子層電漿處理; Atomic layer deposition; ALD; High-k; High-k/metal gate; HKMG; Dual work function metal; DWFM; Atomic layer plasma treatment; ALPT; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |