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題名 | 利用陰極電弧沉積TiCrAlN陶瓷硬膜強化ADI表面特性探討=Exploration on Surface Characterization of ADI Reinforced by TiCrAlN Ceramic Hard Film Using Cathodic Arc Deposition |
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作者姓名(中文) | 許正勳; 彭家威; 方鈞毅; 何政澔; 林俊穎; | 書刊名 | 鑄造工程學刊 |
卷期 | 49:1=194 2023.06[民112.06] |
頁次 | 頁1-10 |
分類號 | 472.2 |
關鍵詞 | 沃斯回火球墨鑄鐵; 氮化鋁鉻鈦鍍膜; 陰極電弧沉積; 耐磨耗性; 耐腐蝕性; Austempered ductile iron; TiCrAlN film; Cathodic arc deposition; Wear resistance; Corrosion resistance; |
語文 | 中文(Chinese) |