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題 名 | 以循序設計方式利用中央和合成設計於薄膜電晶體液晶顯示器之蝕刻製程最佳化研究=Using Central Composite for the Parameters Optimization on the Etching Process of Thin Film Transistor Liquid Crystal Display |
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作 者 | 方正中; 楊金山; 王鵬森; 張立謙; 林家鳳; | 書刊名 | 計量管理期刊 |
卷 期 | 18:1 2021.05[民110.05] |
頁 次 | 頁91-110 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 中央合成設計; 反應曲面法; 薄膜電晶體液晶顯示器; 蝕刻深度; 最佳組合參數; Central composite design; Response surface methodology; Thin film transistor liquid crystal display; Etching process; Optimal process parameters; |
語 文 | 中文(Chinese) |