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題名 | 新穎複合式電漿源硬質鍍膜技術=Novel Hybrids Plasma Source Technology in Hard Coating Application |
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作者 | 唐健富; 羅國峻; 楊復期; 張奇龍; | 書刊名 | 真空科技 |
卷期 | 33:2 2020.06[民109.06] |
頁次 | 頁52-62 |
分類號 | 472.16 |
關鍵詞 | 高功率脈衝磁控濺鍍; 陰極電弧蒸鍍; 機械性質; 氮化鈦; High-power impulse magnetron sputtering; Cathode arc evaporation; Mechanical properties; TiN; |
語文 | 中文(Chinese) |