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題名 | 利用反應性直流磁控濺鍍法以Nb與NbOₓ靶材為起始材料沉積之Nb₂O₅薄膜特性研究=Properties of Nb₂O₅ Films Deposited by DC Reactive Magnetron Sputtering from Nb and NbOₓ as Starting Materials |
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作者 | 唐謙仁; 吳俊賢; 江政忠; 周青宏; Tang, Chien-jen; Wu, Chun-hsien; Jaing, Cheng-chung; Chou, Ching-hung; |
期刊 | 真空科技 |
出版日期 | 20190900 |
卷期 | 32:3 2019.09[民108.09] |
頁次 | 頁22 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 五氧化二鈮; 反應性磁控濺鍍; 遲滯現象; 光學常數; Nb₂O₅ film; Reactive magnetron sputtering; Hysteresis behavior; Optical constants; |