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題 名 | 以反射係數及相位測量薄膜的光學常數及厚度研究 |
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作 者 | 朱正煒; 李正中; | 書刊名 | 光學工程 |
卷 期 | 61 1998.03[民87.03] |
頁 次 | 頁5-13 |
分類號 | 471.7 |
關鍵詞 | 橢圓偏極術; 相位偏移; 光學常數; Ellipsometry; Phase shifting; Optical constant; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本文針對橢圓偏極術之缺點,以相位偏移式橢圓儀為基礎,提出一套新的測量方法,不但可以測量到橢圓參數,而且可同時測量到薄膜的P偏極光及S 極光的反射係數大小︱r�d︱、︱r�腹W,再以簡形優化法(Simplex method),同時求出薄膜的光學常數及厚度。文中詳細描述了測量原理及誤差分析,也對求解薄膜的光學常數及厚度的方法作了詳細分析,且以此技術成功測量了SiO�砥BAl�烙�陛BAl、Cr等四種薄膜的折射率、消光係數及厚度。 |
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