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題名 | 反應性直流磁控濺鍍製程之PID穩定控制研究=The Stability of PID Control for DC Reactive Magnetron Sputtering Processes |
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作者 | 唐謙仁; 許詠崴; 周青宏; 江政忠; | 書刊名 | 真空科技 |
卷期 | 32:3 2019.09[民108.09] |
頁次 | 頁24-30 |
分類號 | 472.16 |
關鍵詞 | PID控制; 反應性磁控濺鍍; 遲滯現象; 光學常數; PID control; Reactive magnetron sputtering; Hysteresis behavior; Optical constants; |
語文 | 中文(Chinese) |