查詢結果
檢索結果筆數(12)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:2 2000.07[民89.07]
- 頁 次:
頁59-63
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:2 2000.07[民89.07]
- 頁 次:
頁64-67
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
21:5=115 2000.04[民89.04]
- 頁 次:
頁65-72
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
67 1997.08[民86.08]
- 頁 次:
頁10-13
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24:2 2011.06[民100.06]
- 頁 次:
頁56-61
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24:2 2011.06[民100.06]
- 頁 次:
頁62-70
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:1 2007.10[民96.10]
- 頁 次:
頁59-62
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:2 民95.11
- 頁 次:
頁123-128
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁22
-
- 題 名:
反應性直流磁控濺鍍製程之PID穩定控制研究:The Stability of PID Control for DC Reactive Magnetron Sputtering Processes
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁24-30
- 題 名:
-
- 題 名:
射頻磁控濺鍍製備WO₃/Ag/W/WO₃多層膜之研究:Investigation of WO₃/Ag/W/WO₃ Multilayer by RF Magnetron Sputtering
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:2 2019.06[民108.06]
- 頁 次:
頁35_1-35_6
- 題 名:
-
- 題 名:
寬波域抗反射鍍膜設計與製造之研究:Design and Fabrication of Broadband Antireflection Coating
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
44:2 2021.12[民110.12]
- 頁 次:
頁118-128
- 題 名: