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題名 | 製程壓力對於化學氣相沉積法在銅箔上成長石墨烯之影響=The Effect of Process Pressure for the Graphene Growth on Copper Foil via Chemical Vapor Deposition |
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作者 | 吳長紘; 謝建國; Wu, Chang-hung; Hsieh, Chien-kuo; |
期刊 | 真空科技 |
出版日期 | 20190300 |
卷期 | 32:1 2019.03[民108.03] |
頁次 | 頁46-50 |
分類號 | 440.34 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 石墨烯; 化學氣相沉積法; 製程壓力; 晶粒尺寸; Graphene; Chemical vapor deposition; Process pressure; Grain size; |