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題 名 | 使用VHF PECVD探討非晶矽薄膜於N型矽基板之鈍化效果=Effects of Passivation Layer Deposited on N-type Crystalline Silicon by Using VHF 40.68 MHz Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition |
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作 者 | 林家豪; 吳宏偉; 田偉辰; 洪政源; 劉世坤; | 書刊名 | 真空科技 |
卷 期 | 31:2 2018.06[民107.06] |
頁 次 | 頁(22)1-(22)6 |
分類號 | 448.59 |
關鍵詞 | 非晶矽薄膜; 鈍化; 電漿輔助化學氣相沉積系統; Amorphous silicon thin film; Passivation; Plasma enhanced chemical vapor deposition; PECVD; |
語 文 | 中文(Chinese) |