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題 名 | MOCVD噴灑頭式反應腔性能與氮化鎵薄膜沉積化學反應場之數值模擬=Performance Analysis of a Showerhead Type MOCVD Reactor and Chemical Reaction Field Simulation for GaN Thin Film Deposition |
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作 者 | 傅武雄; 鄭泗東; 王威翔; 許智勝; 陳柏霖; | 書刊名 | 機械工業 |
卷 期 | 377 2014.08[民103.08] |
頁 次 | 頁144-157 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 有機化學氣相沉積; 噴灑頭式進氣口; 化學場模擬; Metal organic chemical vapor deposition; Showerhead; Chemical field simulation; |
語 文 | 中文(Chinese) |