您的瀏覽器不支援或未開啟JavaScript功能,將無法正常使用本系統,請開啟瀏覽器JavaScript功能,以利系統順利執行。
返回
/NclService/
快速連結
跳到主要內容
:::
首頁
關於本站
網站導覽
聯絡我們
國家圖書館
English
開啟查詢結果分析
查詢資訊
期刊論文索引(找篇目)
指令檢索
期刊指南(找期刊)
近代 (1853-1979年) 港澳華文期刊索引
漢學中心典藏大陸期刊論文索引
中國文化研究論文目錄
期刊瀏覽
檢索歷程
期刊授權
出版機構
公佈欄
常見問題
軟體工具下載
:::
首頁
>
查詢資訊
>
期刊論文索引查詢
>
詳目列表
查詢結果分析
來源資料
潔淨科技
12 民94.12
頁41-45
相關文獻
晶圓廠黃光區空氣品質阿摩尼亞濃度異常真因探討
晶圓廠空氣中氣態分子污染物之採樣及分析
半導體製程環境中空降分子污染物的特性與質譜分析
國內晶片組大廠發展策略評析
921地震對於國內晶圓廠的影響
臺灣積體電路(TSMC)
半導體晶圓廠使用之超潔淨閥概述
半導體製程環境中空降分子污染物的特性與質譜分析
晶圓廠離子植入機臺維修作業化學性因子暴露研究
日本資產再生公司(RTC)資產管理公司(AMC)之探究
頁籤選單縮合
基本資料
引用格式
國圖館藏目錄
全國期刊聯合目錄
勘誤回報
我要授權
匯出書目
題 名
晶圓廠黃光區空氣品質阿摩尼亞濃度異常真因探討
作 者
秦光恆
;
書刊名
潔淨科技
卷 期
12 民94.12
頁 次
頁41-45
專 輯
AMC專題
分類號
555.58
關鍵詞
晶圓廠
;
阿摩尼亞
;
黃光區製程
;
AMC
;
語 文
中文(Chinese)
頁籤選單縮合
推文
引用網址
引用嵌入語法
Line
FB
Google bookmarks
本文的引用網址:
複製引用網址
本文的引用網址:
複製引用網址