您的瀏覽器不支援或未開啟JavaScript功能,將無法正常使用本系統,請開啟瀏覽器JavaScript功能,以利系統順利執行。
返回
/NclService/
快速連結
跳到主要內容
:::
首頁
關於本站
網站導覽
聯絡我們
國家圖書館
English
開啟查詢結果分析
查詢資訊
期刊論文索引(找篇目)
期刊指南(找期刊)
近代 (1853-1979年) 港澳華文期刊索引
漢學中心典藏大陸期刊論文索引
中國文化研究論文目錄
期刊瀏覽
檢索歷程
期刊授權
出版機構
公佈欄
常見問題
軟體工具下載
:::
首頁
>
查詢資訊
>
期刊論文索引查詢
>
詳目列表
查詢結果分析
來源資料
勞工研究
137 1999.10[民88.10]
頁45-73
相關文獻
晶圓廠離子植入機臺維修作業化學性因子暴露研究
景氣反轉下12吋晶圓廠建廠計畫
12吋晶圓廠的進與退?
晶圓廠勞動過程之探討--以時間秩序為分析角度
Top Fabless IC Design House Return on Equity Predictions by Using the VCDRSA Based Flow Graphs
我國動態隨機存取記憶體產業分析與策略研究
我國光電半導體產業概況與動向
高科技十大潛利產業--解析九八之星
半導體產業的發展現況
由半導體產業近況談選股方向
頁籤選單縮合
基本資料
引用格式
國圖館藏目錄
全國期刊聯合目錄
勘誤回報
我要授權
匯出書目
題名
晶圓廠離子植入機臺維修作業化學性因子暴露研究=Research on Exposure to Chemcial Factors during Preventive Maintenance of Ion Implantater in Semiconductor Manufacturing
作者姓名(中文)
高馨儀
;
書刊名
勞工研究
卷期
137 1999.10[民88.10]
頁次
頁45-73
分類號
448.552
關鍵詞
晶圓廠
;
半導體產業
;
語文
中文(Chinese)
頁籤選單縮合
推文
引用網址
引用嵌入語法
Line
FB
Google bookmarks
本文的引用網址:
複製引用網址
本文的引用網址:
複製引用網址