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題名 | 半導體製程環境中空降分子污染物的特性與質譜分析= |
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作者 | 凌永健; 陳麗真; |
期刊 | 科儀新知 |
出版日期 | 19990600 |
卷期 | 20:6=110 1999.06[民88.06] |
頁次 | 頁98-109 |
分類號 | 343.381、343.381 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 半導體製程; 空降分子污染物; 質譜儀分析; Airbone molecular contaminant; AMC; |
中文摘要 | 本文簡介高科技電子半導體製程環境中空降分子污染物特性,以實例說明其對製程和產能的影響,並說明應用質譜儀分析與監測空降分子污染物之方法,以幫助讀者利用質譜儀研究、分析與監測空降分子污染物之工作。 |
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