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題名 | 濺鍍用靶材之製造方法介紹=Introduction of Manufacturing Technologies of Sputtering Targets |
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作者 | 謝榮淵; | 書刊名 | 技術與訓練 |
卷期 | 27:4=215 2002.08[民91.08] |
頁次 | 頁135-145 |
專輯 | 特殊合金 |
分類號 | 440.39 |
關鍵詞 | 濺鍍靶材; 純度; 晶粒大小; 優選結晶方向; Sputtering target; Purity; Grain size; Preferred orientation; |
語文 | 中文(Chinese) |