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題名 | 雙面奈米壓印技術製作寬波段之抗反射相位延遲系統=Broadband Antireflective and Chromatic Phase Retardation System Fabricated by Dual-side Nanoimprint Lithography |
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作者 | 游振傑; 陳愉婷; 萬德輝; 陳學禮; | 書刊名 | 奈米通訊 |
卷期 | 18:2 2011.06[民100.06] |
頁次 | 頁39-46 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 相位延遲; 波板; 雙面奈米壓印; 抗反射; Phase retardation; Wave plate; Dual-side nanoimprint; Antireflection; |
語文 | 中文(Chinese) |