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題名 | 加鋅水化學光電化學效應對反應器內部組件材料腐蝕電位影響評估=Photoelectrochemical Effect of Zinc Water Chemistry on the Electrochemical Corrosion Potentials of Reactor Vessel Internal Components |
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作者姓名(中文) | 李宜親; 馮克林; 張靜; 朱方; | 書刊名 | 台電工程月刊 |
卷期 | 749 2011.01[民100.01] |
頁次 | 頁14-26 |
分類號 | 449.5 |
關鍵詞 | 光電化學; 加鋅水化學; 紫外光; SS304不銹鋼; Alloy182鎳基合金; 電化學腐蝕電位; Photo-electrochemistry; Zinc water chemistry; Ultra-violet light; SS304 stainless steel; Alloy182 nickel-based alloy; Electrochemical corrosion potential; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 摘 要 加氫水化學是目前控制反應器內部組件應力腐蝕主要方法,注氫可降低電化學腐蝕 電位,抑制應力腐蝕破裂傾向。在加氫水質中鈷60 較易沈積於金屬管路上,加鋅水化學 可避免輻射劑量異常升高。然而鋅可能於管件表面形成具p-type 半導體特性之氧化膜, 在爐心受Cherenkov 及Gamma 輻射照射下,產生過量的電子 (Excess Electrons),促進還 原反應,導致電化學腐蝕電位上升,對於應力腐蝕破裂產生不良效應,反而減緩加氫水化 學保護作用。本研究針對一般水化學及加氫水化學環境中不同鋅濃度對SS304 不銹鋼及 Alloy182 鎳基合金表面膜半導體特性的影響。以紫外光模擬Cherenkov 輻射光照進行高 溫高壓水質中光電化學測試。實驗結果顯示Alloy 182 鎳基合金表面膜主要具備n 型半導 體特性。在紫外光照射刺激下,電化學腐蝕電位皆往陰極方向偏移。 SS304 不銹鋼表面膜卻會因水質氧化性或加鋅濃度而有不同半導體特性,但多為n 型半導體,只有加氫水化學環境中有輕微p 型半導體特徵。 從 SS304 不銹鋼及Alloy 182 鎳基合金紫外光照射測試結果顯示,在氧化性一般水化 學或還原性加氫水化學中注鋅,反應器爐心內部Cherenkov 輻射光照不會對於SS304 及 Alloy 182 電化學腐蝕電位造成負面影響,而發生降低水質控制對爐心內部鎳基合金及不 銹鋼組件應力腐蝕破裂抑制效果。 |
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