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題 名 | 超高頻電漿輔助化學氣相沉積設備技術=Technology of VHF Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Equipment |
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作 者 | 陳冠州; 董福慶; | 書刊名 | 機械工程 |
卷 期 | 266 2008.09[民97.09] |
頁 次 | 頁84-94 |
分類號 | 448.167 |
關鍵詞 | 太陽電池; 電漿輔助化學氣相沉積; 超高頻; Solar cell; PECVD; Very high frequency; |
語 文 | 中文(Chinese) |