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題名 | 應用雙雷射光技術以提升雷射尖峰退火的製程能力= |
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作者 | Hebb, Jeff; Wang, Yun; Chen, Shaoyin; Shen, Michael; Zhou, Senquan; Wang, Xiaoru; Owen, David; Shetty, Shrinivas; Le, Van; Fang, Emil; |
期刊 | 電子月刊 |
出版日期 | 20100900 |
卷期 | 16:9=182 2010.09[民99.09] |
頁次 | 頁112-120 |
分類號 | 448.552 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 雷射尖峰退火; 快速退火; 接面活化; 矽化鎳; |