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題名 | 大面積LPCVD氣流場模擬分析=Analysis of Flow Field in a Large-scale LPCVD Reactor |
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作者姓名(中文) | 黃智勇; 陳瑞祥; 吳宗信; 梁沐旺; 江銘通; 張永光; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 338 2011.05[民100.05] |
頁次 | 頁10-18 |
專輯 | 光電產業設備技術專輯 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 低壓化學氣相沉積; 雷諾數; 氣體流場分佈; 紊流; 葛拉斯霍夫數; Low pressure chemical vapor disposition; Reynolds number; Air flow distribution; Turbulent; Grashof number; |
語文 | 中文(Chinese) |