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題名 | 原子層沉積技術的沿革=The Development of Atomic Layer Deposition Technology |
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作者 | 李侃峰; 黃智勇; 王慶鈞; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 314 2009.05[民98.05] |
頁次 | 頁51-57 |
專輯 | 太陽光電製程設備技術專輯 |
分類號 | 448.167 |
關鍵詞 | 原子層沉積; 電漿輔助原子層沉積; 太陽能電池; Atomic layer deposition; Plasma enhanced atomic layer deposition; Solar cell; |
語文 | 中文(Chinese) |