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題名 | Impact of High Temperature Thermal Cycle on the Characteristics of Thin Film Transistor in ULSI Technology=極大型積體電路技術中高溫製程對薄膜電晶體特性影響之研究 |
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作者 | 陳啟文; 吳明瑞; Chen, Chii-wen; Wu, Ming-ray; |
期刊 | 明新學報 |
出版日期 | 19981200 |
卷期 | 21 民87.12 |
頁次 | 頁149-155 |
分類號 | 448.552 |
語文 | eng |
關鍵詞 | 複晶矽; 薄膜電晶體; 爐管退火; 快速升溫退火; 靜態隨機存取記憶體; Polysilicon; TFT; Furnace annealing; RTA; High temperature annealing; SRAM; |