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題 名 | Effects of Nanoindentation Depth and Annealing Temperature on Microstructural Evolution of Au/Cr/Si Thin Films=奈米壓深及退火溫度對金鉻矽薄膜顯微結構的影響 |
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作 者 | 李偉賢; 馮芳瑞; | 書刊名 | 中國機械工程學刊 |
卷 期 | 29:4 2008.08[民97.08] |
頁 次 | 頁281-287 |
分類號 | 440.35 |
關鍵詞 | 奈米壓深; 退火; 金鉻矽薄膜; 顯微結構; Au-Si thin films; Nanoindentation; Amorphisation; Annealing; Eutectic phase; |
語 文 | 英文(English) |