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來源資料
機械工業
287 2007.02[民96.02]
頁163-169
工程學總論
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題名
感應耦合電漿蝕刻化學氣相沉積多晶鑽石膜之研究=Investigation of ICP Etching of CVD Diamond Film
作者姓名(中文)
趙崇禮
;
周文成
;
簡川于
;
馬廣仁
;
林宏彝
;
吳東權
;
書刊名
機械工業
卷期
287 2007.02[民96.02]
頁次
頁163-169
分類號
440.34
關鍵詞
常壓電漿
;
CVD鑽石膜
;
ICP
;
Atmospheric pressure air
;
Plasma
;
CVD diamond film
;
語文
中文(Chinese)
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