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題 名 | ADI利用陰極電弧電漿沈積TiN/TiAIN硬膜之研究=Study of ADI Surface Coated TiN/TiAIN by Cathodic Arc Plasma Deposition |
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作 者 | 許正勳; 呂榕凱; 賴奎良; 陳明禮; 施儀訓; | 書刊名 | 鑄造工程學刊 |
卷 期 | 31:2=125 民94.06 |
頁 次 | 頁1-6 |
分類號 | 472.2 |
關鍵詞 | 沃斯回火球墨鑄鐵; 陰極電弧電漿沈積; TiN/TiAIN硬膜; 耐蝕性; Austempered ductile iron; Cathor dic arc plasma deposition; TiN/TiAIN; Corrosion resistance; |
語 文 | 中文(Chinese) |