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題名 | 銅/鉭金屬化學--機械拋光過程中之伽凡尼腐蝕之研究=Galvanic Corrosion of Cu/Ta during Chemical-Mechanical Polishing |
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作者 | 陳瑞琴; 蔡文達; Chen, Jui-chin; Tsai, Wen-ta; |
期刊 | 防蝕工程 |
出版日期 | 20040600 |
卷期 | 18:2 2004.06[民93.06] |
頁次 | 頁155-162 |
分類號 | 472.6 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 銅; 鉭; 化學-機械拋光; 伽凡尼腐蝕; CMP; Chemical-mechanical polishing; Copper; Tantalum; Galvanic corrosion; |