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來源資料
機械工業
210 2000.09[民89.09]
頁208-221
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題名
室溫液相沉積技術、暨設備技術在未來半導體製程的應用與發展潛力=
作者
葉清發
;
李岳川
;
陳添富
;
蕭智文
;
王碩晟
;
期刊
機械工業
出版日期
200009
卷期
210 2000.09[民89.09]
頁次
頁208-221
分類號
448.552
語文
chi
關鍵詞
液相沈積技術
;
複晶矽薄膜電晶體
;
半導體設備
;
LPD
;
TFT's
;
Semiconductor equipment
;
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