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題 名 | 矽晶圓表面摻雜之離子佈植模擬分析=Simunlation on Silicon Wafer Doping Using Implantation |
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作 者 | 林肇民; 劉東弘; | 書刊名 | 吳鳳學報 |
卷 期 | 11 2003.05[民92.05] |
頁 次 | 頁443-449 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 離子佈植; 摻雜; 劑量; 通道效應; 傾斜角; Implantation; Doping; Dose; Channeling effect; Tilt angle; |
語 文 | 中文(Chinese) |