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題名 | Temperature Uniformity of 12-inch Silicon Wafer during Rapid Thermal Processing=十二吋矽晶圓在快速熱製程中溫度均勻性之研究 |
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作 者 | 曲新生; | 書刊名 | 中國機械工程學刊 |
卷期 | 24:4 2003.08[民92.08] |
頁次 | 頁391-406 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 十二吋矽晶圓; 快速熱製程; 溫度均勻性; Temperature uniformity; Rapid thermal processing; 12 inches; Silicon wafer; |
語文 | 英文(English) |