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題名 | 高速熱處理的晶圓穩態熱流分析=Steady-state Analysis of Heat Transfer and Fluid Flow During Rapid Thermal Processing |
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作者 | 卓統民; 林育才; Chou, Tong-min; Lin, Yur-tsai; |
期刊 | 技術學刊 |
出版日期 | 200106 |
卷期 | 16:2 2001.06[民90.06] |
頁次 | 頁345-352 |
分類號 | 448.552 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 高速熱處理; 晶圓溫度均勻性; 計算流力與熱傳; Rapid thermal processing; Wafer temperature uniformity; Computational fluid dynamics and heat transfer; |