查詢結果分析
來源資料
相關文獻
- SF[feb8]-O[feaf]氣體的非等向性矽蝕刻技術
- 空間變異對監測站網評估之影響
- Rotordynamic Analysis of Anisotropic Rotor-Bearing Systems by Dynamic Stiffness Method
- CO氣體純化技術、改善乾蝕刻製程
- 非受壓礫石含水層延遲出水狀態之抽水試驗分析
- 動態隨機存取記憶體單元中之冠狀電容的設計
- 基因治療用微針陣列結構之加工與塑料成型
- Wave-Induced Liquefaction Potential in a Cross-Anisotropic Seabed
- 非受壓含水層非等向性抽水試驗延遲出水狀態之地下水參數分析
- 微文氏管與孔口之製作與分析
頁籤選單縮合
題 名 | SF[feb8]-O[feaf]氣體的非等向性矽蝕刻技術=Anisotropic Dry Ething Technology of Silicon Using SF[feb8]-O[feaf]Gas |
---|---|
作 者 | 陳秀香; | 書刊名 | 光學工程 |
卷 期 | 83 2003.09[民92.09] |
頁 次 | 頁73-78 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 乾蝕刻; 非等向性; 黑色矽; Dry etching; Anisotropic; Black silicon; |
語 文 | 中文(Chinese) |