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來源資料
機械工業
234 2002.09[民91.09]
頁128-133
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匯出書目
題 名
電漿技術於Ⅲ-Ⅴ製程設備的應用--薄膜沉積篇
作 者
張加強
;
書刊名
機械工業
卷 期
234 2002.09[民91.09]
頁 次
頁128-133
專 輯
半導體設備技術專輯
分類號
448.552
關鍵詞
三-五族
;
電獎加速化學氣沉積
;
沉積設備
;
電漿
;
Ⅲ-Ⅴ
;
PECVD
;
Deposition equipment
;
Plasma
;
語 文
中文(Chinese)
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