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題名 | 蝕刻網罩製造專利地圖分析= |
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作者 | 邱正茂; 苑承剛; |
期刊 | 工業材料 |
出版日期 | 20001200 |
卷期 | 168 2000.12[民89.12] |
頁次 | 頁154-160 |
分類號 | 448.5 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 網罩; 光阻塗佈; 曝光; 蝕刻; 監視器; 專利; Shadow mask; Photoresist coating; Exposure; Etching; Monitor; Patent; |
中文摘要 | 網罩的蝕刻製程技術,在1974年即由美國BMC公司提出,後來大日本印 刷(DNP)公司向BMC購買專利權之後,該技術就在日本發揚光大。日本陸續有大 日本網版(DNS)、凸版印刷、東芝等四家業者投入生產。日本各廠在路續釋出LCD Pane1生產技術的同時,卻一再拒絕台灣有興趣之業者轉移網罩的蝕刻技術。國 內為了開發網罩的蝕刻技術,勢必從頭開始,因此其專利地圖的建構與分析,就 相對顯得十分重要。就即是針對上述想法,就目前與網罩蝕刻技術相關的專利, 依申請公司、技術類別分別加以剖析,使蝕刻技術研究者,能有所了解並能避開 其專利陷阱。 |
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