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題名 | 高均勻蝕孔尺寸要求之網罩蝕刻技術= |
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作者 | 邱正茂; 李淑幸; 林兆焄; 賴詩文; |
期刊 | 工業材料 |
出版日期 | 20001200 |
卷期 | 168 2000.12[民89.12] |
頁次 | 頁147-153 |
分類號 | 448.5 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 網罩; 光阻塗佈; 曝光; 背塗; 蝕刻; Shadow mask; Photoresist coating; Exposure; Back coating; Etching; |
中文摘要 | 網罩(Shadow Mask)在彩色映像管中的主要功能,在導引電子束撞擊螢光 幕上的色點,經由電子束的掃描控制,使螢光幕上呈現高解析度的文字、畫面或 圖案。網罩的這項功能,決定了彩色映像管的畫質。所以,網罩的品質好壞也就 決定彩色映像管的最終畫質。網罩本身因蝕刻開孔的不均勻,在蝕刻完成時即可 察覺,也很容易證實在未來安裝到彩色映像管內時,必然產生不均勻的Mura(或 稱Morei),而造成顧客不滿意退貨的問題。但是,在網罩製造的過程中卻不易判 斷是在哪一步驟產生了不均勻的Mura,以目前的技術與設備,非得等到最後蝕刻 成品出來後,以人工之肉眼直接觀察,才能獲得結論。本文即是針對網罩蝕刻技 術中影響均勻蝕刻開孔之重點因素加以討論。 |
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