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題名 | 常壓電漿束技術在半導體製程之應用 |
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作者姓名(中文) | 張耀仁; 藍光宏; 洪達志; 黃建榮; | 書刊名 | 機械工程 |
卷期 | 233 2000.08[民89.08] |
頁次 | 頁65-71 |
專輯 | 半導體設備技術 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 電漿束; 非接觸式晶圓支座; 晶圓薄化; Plasma jet; Non-contact wafer holder; Wafer thinning; |
語文 | 中文(Chinese) |