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Global Model of Plasma Chemistry in a High Density Argon/Hydrogen Discharge:高密度氬氣/氫氣電漿反應器之模型研究
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:5 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁477-485
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
86 2000.10[民89.10]
- 頁 次:
頁21-24
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:4 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁14-16
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:3 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁38-47
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- 題 名:
應用於大面積微波電漿源之輻射共振腔原理探討:Theory of a Diffractive Resonator for Large Area Microwave Plasma Design
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:3 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁55-61
- 題 名:
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- 題 名:
矽深蝕刻技術在微機電系統的應用:Deep Silicon Etching Technology and Its Application to MEMS
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
72 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁30-38
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:11 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁825-835
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:2 2000.07[民89.07]
- 頁 次:
頁64-67
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
232 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁67-71
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
10:1 2000.01[民89.01]
- 頁 次:
頁46-54
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
221 2000.01[民89.01]
- 頁 次:
頁135-139
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:1 2000.03[民89.03]
- 頁 次:
頁25-30
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
2000.03[民89.03]
- 頁 次:
頁1-8
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁136-143
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
18:3 2000.06[民89.06]
- 頁 次:
頁325-397
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
70 2000.06[民89.06]
- 頁 次:
頁52-58
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36 2000.07[民89.07]
- 頁 次:
頁91-95
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:4=57 2000.04[民89.04]
- 頁 次:
頁126-130
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:4=57 2000.04[民89.04]
- 頁 次:
頁144-149
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:4=57 2000.04[民89.04]
- 頁 次:
頁150-154