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- 題 名:
電漿密度量測系統的製作與評估:Making and Evaluation of a Plasma Density Measuring Sysetm
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27:1 1999.03[民88.03]
- 頁 次:
頁89-93
- 題 名:
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- 題 名:
Global Model of Plasma Chemistry in a High Density Argon/Hydrogen Discharge:高密度氬氣/氫氣電漿反應器之模型研究
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:5 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁477-485
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:1 2000.02[民89.02]
- 頁 次:
頁39-42
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
10:1 2003.02[民92.02]
- 頁 次:
頁14-19
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- 題 名:
比較CF[feb2]/C[feaf]H[feaf]及CF[feb2]/C[feaf]H[feb8]電漿製備低介電材料氟化非晶碳膜之研究:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:4 2002.11[民91.11]
- 頁 次:
頁33-37
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:3 2000.08[民89.08]
- 頁 次:
頁9-18
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
21:12=249 2013.12[民102.12]
- 頁 次:
頁84-94
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
57 2001.08[民90.08]
- 頁 次:
頁24-27
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
76 2004.10[民93.10]
- 頁 次:
頁179-183
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁87-96
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
326 2010.05[民99.05]
- 頁 次:
頁76-86
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
37:2 民95.03
- 頁 次:
頁169-176
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
429 2008.09[民97.09]
- 頁 次:
頁32-37
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
475 2022.10[民111.10]
- 頁 次:
頁22-31