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- 題 名:
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- 卷 期:
58:4 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁691-699
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
168 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁139
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
168 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁140-146
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
168 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁147-153
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
168 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁154-160
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
168 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁161-170
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題 名:
矽深蝕刻技術在微機電系統的應用:Deep Silicon Etching Technology and Its Application to MEMS
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
72 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁30-38
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
159 2000.03[民89.03]
- 頁 次:
頁148-154
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8:2 2000.06[民89.06]
- 頁 次:
頁205-216
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
70 2000.06[民89.06]
- 頁 次:
頁10-16
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:4=57 2000.04[民89.04]
- 頁 次:
頁132-136
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:4=57 2000.04[民89.04]
- 頁 次:
頁144-149
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:1 2000.06[民89.06]
- 頁 次:
頁383-393
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁15113-15140
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題 名:
微機電系統的感應耦合電漿設備與製程技術:Inductively Coupled Plasma Equipment and Technology in MEMS
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁17-24
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁25-31
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁36-38
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題 名:
Ohmic Contacts and Reactive Ion Beam Etching for P-Type GaN:P型氮化鎵之歐姆式接觸與活性離子蝕刻
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:3 2000.08[民89.08]
- 頁 次:
頁203-210
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:8=61 2000.08[民89.08]
- 頁 次:
頁104-112
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:8=61 2000.08[民89.08]
- 頁 次:
頁114-121