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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:3 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁38-47
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題 名:
應用於大面積微波電漿源之輻射共振腔原理探討:Theory of a Diffractive Resonator for Large Area Microwave Plasma Design
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:3 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁55-61
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:2 2000.07[民89.07]
- 頁 次:
頁64-67
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2001.07[民90.07]
- 頁 次:
頁19-26
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題 名:
微波電漿化學氣相法沈積SiNC硬膜及其特性分析:Growth and Characterization of SiNC Hard Film by MPCVD
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2001.07[民90.07]
- 頁 次:
頁27-33
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2001.07[民90.07]
- 頁 次:
頁34-45
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2001.07[民90.07]
- 頁 次:
頁46-56
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題 名:
微機電系統的感應耦合電漿設備與製程技術:Inductively Coupled Plasma Equipment and Technology in MEMS
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁17-24
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁25-31
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁36-38
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:2 1996.07[民85.07]
- 頁 次:
頁34-45
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:2 1996.07[民85.07]
- 頁 次:
頁54-61
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題 名:
以電漿輔助離子化磁控濺鍍法製備Li-Ni-O薄膜及其特性分析:Ionized Magnetron Sputter Deposited Li-Ni-O thin Films
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16:1 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁21-26
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題 名:
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- 題 名:
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編 次:
2
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:3 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁44-50
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:4 2002.11[民91.11]
- 頁 次:
頁17-24
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:4 2002.11[民91.11]
- 頁 次:
頁25-33
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- 題 名:
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編 次:
1
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:2 2002.07[民91.07]
- 頁 次:
頁27-37
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:3/4 民83.11
- 頁 次:
頁23-30
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:1 1994.06[民83.06]
- 頁 次:
頁12-17
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題 名:
characterization of Plasma-aid PVD Processes:電漿加強式物理氣相被覆法之性能
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:2 1993.08[民82.08]
- 頁 次:
頁37-45
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題 名: