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來源資料
真空科技
9:2 1996.07[民85.07]
頁29-33
金屬工藝
>
製模;造型
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題 名
以非平衡磁控濺射法蒸鍍Cr-C:H薄膜之研究=The Study of Cr-C:H Coatings by Unbalanced Magnetron Sputtering
作 者
吳政道
;
陳瑜堯
;
書刊名
真空科技
卷 期
9:2 1996.07[民85.07]
頁 次
頁29-33
分類號
472.22
關鍵詞
非平衡磁控濺射
;
含鉻碳氫膜
;
摩擦係數
;
附著性
;
耐磨耗性
;
語 文
中文(Chinese)
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