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題名 | 化學機械研磨製程之有限元素建模=Finite Element Modeling for Chemical Mechanical Polishing Process |
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作者 | 林有鎰; 羅仕鵬; Lin, Yeou-yih; Lo, Ship-peng; |
期刊 | 德霖學報 |
出版日期 | 200306 |
卷期 | 17 2003.06[民92.06] |
頁次 | 頁273-284 |
分類號 | 448.895 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 化學機械研磨製程; 晶圓; 有限元素模式; CMP; Wafer; Finite element model; |