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來源資料
德霖學報
17 2003.06[民92.06]
頁273-284
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題 名
化學機械研磨製程之有限元素建模=Finite Element Modeling for Chemical Mechanical Polishing Process
作 者
林有鎰
;
羅仕鵬
;
書刊名
德霖學報
卷 期
17 2003.06[民92.06]
頁 次
頁273-284
分類號
448.895
關鍵詞
化學機械研磨製程
;
晶圓
;
有限元素模式
;
CMP
;
Wafer
;
Finite element model
;
語 文
中文(Chinese)
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