您的瀏覽器不支援或未開啟JavaScript功能,將無法正常使用本系統,請開啟瀏覽器JavaScript功能,以利系統順利執行。
返回
/NclService/
快速連結
跳到主要內容
:::
首頁
關於本站
網站導覽
聯絡我們
國家圖書館
English
開啟查詢結果分析
查詢資訊
期刊論文索引(找篇目)
期刊指南(找期刊)
近代 (1853-1979年) 港澳華文期刊索引
漢學中心典藏大陸期刊論文索引
中國文化研究論文目錄
期刊瀏覽
檢索歷程
期刊授權
出版機構
公佈欄
常見問題
軟體工具下載
:::
首頁
>
查詢資訊
>
期刊論文索引查詢
>
詳目列表
查詢結果分析
來源資料
電路板會刊
4 1999.04[民88.04]
頁11-20
電化學工業
>
電解工業
相關文獻
電化學與銅表面分析及晶體結構之研究
單銅核錯合物[Cu(LEPH)(X)z](x=Cl,Br-)之合成,晶體結構及電化學性質
含內因性吡唑橋及外因性氯橋雙銅核錯合物之合成,晶體結構及電化學研究
利用選擇性電化學接觸置換法製作銅晶種層及導線
熱壓燒結Cu/SiC/Graphite混成複合材料之耐腐蝕行為研究
銅在化學-機械拋光電解液中之電化學性質研究
含鎳、鋅、銅金屬廢液之資源化研究
利用選擇性電化學接觸置換法製作銅晶種層及導線
小孔鍍銅之電化學行為--流體動力學之理論探索與實踐
小孔鍍銅之電化學行為--流體動力學之理論探索與實踐
頁籤選單縮合
基本資料
引用格式
國圖館藏目錄
全國期刊聯合目錄
勘誤回報
我要授權
匯出書目
題名
電化學與銅表面分析及晶體結構之研究
作者姓名(中文)
鄭煇穎
;
書刊名
電路板會刊
卷期
4 1999.04[民88.04]
頁次
頁11-20
分類號
468.2
關鍵詞
電化學
;
銅
;
晶體結構
;
語文
中文(Chinese)
頁籤選單縮合
推文
引用網址
引用嵌入語法
Line
FB
Google bookmarks
本文的引用網址:
複製引用網址
本文的引用網址:
複製引用網址