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題 名 | 矽基材光波導元件之製程技術 |
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作 者 | 高建綱; 高健薰; 張絢; 蔡春鴻; 林諭男; 齊正中; 蘇忠傑; | 書刊名 | 光學工程 |
卷 期 | 68 1999.12[民88.12] |
頁 次 | 頁68-72 |
分類號 | 448.551 |
關鍵詞 | 矽基材; 光波導元件; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 積體光學(integrated optics)之光波導(waveguide)元件具有高度的靈敏度 ,不受電磁波干擾的影響,以及能應用在各種危險的環境中,降低人類工作環境的危險,使 人類獲得更大的方便,而目前所採用的為矽基材,其在製程技術相當成熟,因此未來較有利 於製程的整合。 我們利用電漿輔助化學氣相沈積( plasma enhanced chemical vapor deposition,PECVD ),合成二氧化矽( SiO �砥A)厚膜,加上摻雜不同元素來調變其折射 率,以稜鏡耦合系統( prism coupler system )量測膜的厚度及折射率,然後分別沈積光 波導管的導光層( core layer )及緩衝層( buffer layer ), 搭配光微影 (photolithography) 技術作出光波導結構, 並鋪上覆蓋層( cladding layer ),最後再 以光學衰退量測系統( optical loss measurement system ), 量測光在波導管中衰減的 程度,以評估此光波導元件的品質,並作為其它積體光學元件發展的起步。 |
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