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題 名 | 奈米材料之X光吸收光譜檢測與分析 |
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作 者 | 林中魁; 林鴻明; 童鈞彥; 劉韋良; 李丕耀; 胡宇光; | 書刊名 | 工業材料 |
卷 期 | 155 1999.11[民88.11] |
頁 次 | 頁171-176 |
分類號 | 440.34 |
關鍵詞 | 奈米材料; X光吸收光譜; 檢測; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 利用同步輻射光源對奈米材料進行X光吸收光譜研究,包括X光近緣結構(可以用 來檢測材料中特定原子之電子組態)及延伸X光吸收精細結構(可用來測定原子之區域結構 )兩大部份。在本文中我們將介紹X光吸收光譜的基本原理,並以本研究群對一些奈米材料 之研究,如氣凝合成法合成二元之AgNi及AgFe合金粉末、機械合成法合成之NiAl及NiTa、 NiCo薄膜、石墨包覆金屬鎳等,做實例說明。經由X光吸收光譜在原子短程結構及電子組態 上之優點,與傳統XRD長程有序分析及TEM等結果相互配合,可使我們更加了解奈米材料之結 構特性。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。