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題 名 | 電鍍廠純水製造程序之研究 |
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作 者 | 沈福銘; 徐輝斌; 張秋萍; | 書刊名 | 元培學報 |
卷 期 | 5 1998.12[民87.12] |
頁 次 | 頁41-53 |
分類號 | 445.25 |
關鍵詞 | 比電阻; 導電率; 純水; 活性碳; 離子交換樹脂; Resistivity; Specific resistance; Conductivity; Pure water; Activated carbon; Ion-exchange resin; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本研究主要設計電鍍廠純水製造處理程序,使用2HP原水泵浦導入地下水,經過活性碳過濾塔過濾, 再通過混床式離子交換樹脂塔,經過離子交換的純水儲存至 40M 純水貯槽,再以 2HP 純水泵浦將純水引用至各製程使用點。 此處理程序經過實務操作,處理流量 8M /hr,每再生一次可處理原水 100 噸 (1OOM /cycle),虛理後的水質可達到比電阻 (Resistivity)>0.5 M Ω.cm,亦即將地下水製造成導電率 (Conductivity) 之 uS/cm 的純水以資使用。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。